成功案例Success Cases
在發展中求生存,不斷完善,以良好信譽和科學的管理促進企業迅速發展2025年09月25日, 熱烈祝賀山西芯片工廠成功引入我司安捷倫電感耦合等離子體質譜儀ICP-MS 7900系統!該設備配置氬氧裝置與專用有機進樣系統,通過氬氧混合氣技術,實現了對NMP有機溶劑的直接進樣分析,可精準檢測鉀、鈉、鈣、鎂、鐵、鎳、銅、錫、鈷等關鍵微量元素。感謝客戶對譜標科技在半導體材料痕量分析領域技術實力的高度認可,期待攜手助力芯片制造的純度管控邁向新高度!
完整驗證了“芯片工廠使用安捷倫 ICP-MS 7900 系統,通過氬氧混合氣技術實現對 NMP 有機溶劑直接進樣分析”這一技術路線的可行性與行業現狀,關鍵結論如下:
硬件配置
7900 可加裝第五個質量流量控制器 (MFC),用于向載氣中精確引入氧氣,形成氬氧混合氣,防止高碳有機溶劑(如 NMP)在采樣錐表面積碳,保證長周期穩定運行 。
半導體專用配置還包括鉑錐、PFA 微流量霧化器、帶屏蔽炬的 2.5 mm 石英中心管、低溫 Scott 霧化室等耐腐蝕、高靈敏度組件,滿足直接進樣需求 。
直接進樣與校準策略
行業實踐表明,對 EL/SP 級 NMP 無需稀釋或酸化,可直接通過標準加入法 (MSA) 進樣,避免外來污染,檢出限低至 ppt 級 。
氬氧混合氣有效消除碳基多原子離子對 Mg、Al、P、Cr 等關鍵元素的質譜干擾,背景等效濃度 (BEC) 顯著下降,滿足 SEMI C33-0213 Grade-3 規格 。
檢測指標與性能
一次進樣可同時定量 K、Na、Ca、Mg、Fe、Ni、Cu、Sn、Co 等 54 種溶解態金屬;在單顆粒 (sp) 模式下,還可同步表征 14 種元素的納米顆粒 (20–200 nm) 濃度與粒徑分布 。
對于 Fe、Cr、Ni 等高風險金屬納米顆粒,SP-NMP 級樣品比 EL-NMP 的顆粒濃度降低 1–2 個數量級,為晶圓廠選擇更高純度化學品提供數據支撐
行業落地情況
多家大型半導體 FAB 已將“7900 + 氬氧混合氣 + 有機進樣”方案納入 QC 標準,用于 NMP、PGMEA、IPA 等制程溶劑的日常監控,替代傳統的“稀釋-消解-ICP-OES/MS”兩步法,分析效率提升 50% 以上 。
綜上,安捷倫 ICP-MS 7900 通過氬氧混合氣技術與專用有機進樣系統,確實可在芯片工廠實現對 NMP 等有機溶劑的直接、高靈敏、多元素(含關鍵微/納米級金屬)分析,已成為半導體超純化學品質量控制的主流手段之一。
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